GS系列管式真空气氛炉通过设备控制系统，可实现样品在低、中、高真空环境下进行试验，可有效地防止氧化、腐蚀和污染等问题，加热过程中可保持材料的纯洁性和质量。该产品在航空航天、电子技术、高等院校、工矿企业、科研单位、材料研究等领域都有广泛应用。真空管式炉可作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和钎焊、冶金、玻璃、升华、合成、干燥、脱气、脱脂、新能源、碳纤维、半导体、纳米技术、烧结镀膜、快速原型

管式真空气氛炉

用途概述

GS系列管式真空气氛炉通过设备控制系统，可实现样品在低、中、高真空环境下进行试验，可有效地防止氧化、腐蚀和污染等问题，加热过程中可保持材料的纯洁性和质量。该产品在航空航天、电子技术、高等院校、工矿企业、科研单位、材料研究等领域都有广泛应用。真空管式炉可作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和钎焊、冶金、玻璃、升华、合成、干燥、脱气、脱脂、新能源、碳纤维、半导体、纳米技术、烧结镀膜、快速原型、锂电池正负极材料、金属注射成型(MIM)、陶瓷注射成型(CIM)、高温热解底纹沉积（CVD）等新材料的加热用。

GS系列管式真空气氛炉产品特点

※可多段编程控温度，可实现复杂的温度曲线，满足不同材料和工艺需求；

※采用优质加热元件，负荷高、电阻率高、抗氧化性佳、升温加热速度快，可减少材料的应力及变形；

※炉膛材质为多晶莫来纤维真空吸附而成，节能保温效果佳，温场均匀，确保实验的准确性和一致性。

※管式结构，占用空间小，样品加热均匀，热量分布较为一致，有利于保证产品的质量一致性；

※采用上下闭合式炉体，可选配机械安全门锁，炉盖上翻开启，开盖即停止加热（GK系列）；

※炉体可倾斜设计，方便物料的装卸和操作，且有利于在烧结过程中排出气体和杂质（选配功能）；

※采用一体式炉膛，样品由侧面置入，适用于加热样品1300度以上的加热环境（GS、GB系列）。

※真空加热环境可有效排除空气和杂质，可有效地减少氧气、腐蚀和污染等问题；

※炉管两侧采用不锈钢法兰，两道密封圈挤压密封，有效保证真空度，从而提高气密性；

※炉管两侧为KF快接不锈钢法兰，双环密封技术，侧面预留充气口，可通各类惰性及混合气体；

※可模拟各种气氛条件，可控制炉内的气氛组成，如N2、Ar、H2等，为研究和开发新工艺提供支持。

※炉管两侧具有可支撑气路装置的气路支架，可有效消除气路自身的应力而造成炉管损坏；

※炉管采用高纯石英管或刚玉管，化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数小，可承受冷热骤变；

※具有漏电保护、超温和断偶保护警报，操作安全可靠，背部底侧位置预留检修口，便于检修。

安装步骤

1、首先在石英管侧开口处，塞入管堵头

2、套入内侧法兰固定，再依次套入密封圈、压环、密封圈

3、最后外侧法兰锁紧，用M6螺丝固定即可

技术参数